供应硅片清洗剂，中性水基硅片清洗剂，中性晶片清洗剂

迈浪中性水基硅片清洗剂
MIGHTY ZS-002H
一、应用范围：
本品适用于硅片表面因切割、研磨、抛光等机械加工，在表面生成的多种污染物的清除，如研磨粉、抛光粉、硅粉、微粒、灰尘、**物、金属离子等，这些污染物在晶片进行氧化之前，必须彻底清洗。
二、技术特性：
1、对硅片表面的线切割液残留物、金属离子、硅粉等物质有*特的清洗效果。
2、低泡沫、易操作，洗净率≥99.9%，循环使用无排放，节能环保。
3、不含Na、Fe、Cu、Ni、K等金属离子。
三、主要技术指标：
外 观：淡黄色透明液体，    PH 值(3%水溶液，25℃)：7-8
四、质量标准：QB/T 2117-95
五、使用方法：
1、超声波清洗。按1:10～30兑水。温度：40～60℃。时间：3～5分钟。
2、污垢较重的硅片，适当减小兑水比例，延长清洗时间。清洗完毕，去离子水彻底漂洗。

六、注意事项：
1、工作液不能满足工作要求时，滤清后追加原液、补充工作液或清槽换液。
2、常规防护，不慎溅入眼中立即用清水冲洗。
七、包装规格：25公斤/桶
八、保质期：2年。